志圣工业推出“高亮度与高散热”双解决方案
日期:2011-06-15 11:50
及方便于导入WLP(Wafer Level Package)制程,以利于降低成本之Si interposer TSV整合方案,其中运用到志圣独家开发之晶圆压膜机及DRIE TSV干蚀刻机经制程整合开发出高良率之简易TSV制程,将晶粒黏着于Si Submount,可以使薄化的蓝宝石基板LED晶粒紧密地与Si Submount接合在一起以发挥最大的热传导效能降低GaN晶粒的Junction Temperature,一般而言;只要下降10度C就可以提高50%的使用寿命。

志圣提供此制程的Si interposer TSV整合方案,包括:晶圆压膜机、曝光机、ADRIE Plasma电浆蚀刻机制程设备,能让产品进入更高阶的运用与
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