GlobalFoundries20纳米制程取得重大进展
日期:2011-09-16 15:55
状态:待解决
提问:huangxiaojie
晶圆,使用了HKMG和Gate-Last技术。三星也在七月中宣布完成了全球第一颗20奈米制程的测试晶片。

  这四家EDA厂商都展示了他们的配置与布线工具及技术档案都能够支援20奈米制程相关的进阶规则。这些流程包括了双重曝影技术的元件库预备步骤,而这是一种复杂的平板印刷制程,对于20奈米以及更先进制程的设计业者形成了新的挑战。

  这种20奈米测试晶片需要双重曝影、且经由各个EDA伙伴贡献出一个大型的配置与布线设计。每项设计在制程晶片之前,都经过GlobalFoundries彻底的效力验证,并以20奈米认可验证台进行检查。因同EDA厂商进行
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07/26 20:45